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陈芃; 谭欣; 于涛;
天津大学环境科学与工程学院;
天津大学化工学院;
对向靶磁控溅射; TiO2薄膜; 退火温度; IPA降解; 光电流;
机译:退火温度对射频磁控溅射沉积TiO_2薄膜结构,力学和润湿性能的影响
机译:退火温度和方法对室温下射频磁控溅射制备的TiO_2薄膜结构和光学性能的影响
机译:射频磁控溅射法研究衬底温度和退火温度对Pt薄膜结构,电学和微结构性能的影响
机译:退火温度对磁控溅射C-BN薄膜结构和力学性能的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:原子层沉积生长La2O3薄膜的膜厚和退火温度表征结构性能。
机译:退火温度对射频磁控溅射制造的Siznsno薄膜晶体管电性能的影响
机译:退火条件对Y-Ba-Cu-O薄膜结构和超导性能的影响
机译:薄膜的变化温度退火和由此形成的结构
机译:薄膜和由此形成的结构的可变温度退火
机译:薄膜在不同温度下的退火及其所形成的结构
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