电沉积Cr-Mo合金镀层的耐蚀性

摘要

本文研究了电沉积Cr-Mo合金镀层的晶体结构和钼含量与其耐蚀性的相互关系。对不同温度的电镀镀层进行x-光晶体结构分析,并在30、60℃5％H_2SO_4和30℃3％NaCl等水溶液中,做了腐蚀浸泡试验、阳极极化曲线及孔蚀电位等的测定。实验结果表明,1.采用特殊制备的镀液,在20—100A/dm^2的阴极电流密度、30—70℃时可沉积出致密性良好的Cr-Mo合金镀层。2.在30、70℃镀温下的镀层,其耐蚀性优良,是和它们的镀层晶体结构无明显的择优取向及较高的钼含量有关;而40、60℃镀温下的镀层,耐蚀性欠佳,50℃镀温下的更差,这是由于该种镀温下的镀层晶体结构具有沿Cr(222)结晶面方向择优取向性及层中含钼量较低的缘故。