论顋CVD技术

刘兆云

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一、发展概况 1974年莫托洛拉公司引进LPCVD用于半导体工业,尔后又引进了LTO系统及等离子增强CVD技术,CVD技术得到了惊人的发展。据统计在1980年世界销售的化学气相淀积(CVD)设备已达一亿美元,超过了当年扩散炉的销售额。关于PCVD(Piama Chemical VaporDeposition等离子化学气相淀积)技术的研究,1965年美国的H·F·Sterling进行了射频辉光放电下的CVD试验;1974年A·R·

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来源
《半导体技术》 |1990年第2期|45-48|共4页
作者
刘兆云;
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作者单位

新化无线电设备厂;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN304.05;
关键词
PCVD技术; 半导体; 沉积薄膜;

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