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石昌仑; 张敏; 林国强;
大连理工大学三束材料改性国家重点实验室;
电弧离子镀; TiN薄膜; 管内壁; 脉冲偏压;
机译:脉冲偏压电弧离子镀沉积Ti / TiN多层膜显微硬度的影响因素
机译:脉冲偏压电弧离子镀沉积Cu掺杂TiN复合膜的合成
机译:通过脉冲偏压电弧离子镀沉积的TiN / TiC多层膜
机译:偏压对电弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响
机译:电弧离子镀沉积中石墨阴极的粒子发射控制。
机译:合金基体处理对电弧离子镀金膜的组织和表面性能的影响
机译:衬底偏压对脉冲滤波真空阴极电弧沉积TiN涂层耐冲蚀磨损性能的影响
机译:钢基上离子镀TiN薄膜的成核和生长机制。
机译:低电阻薄膜,特别是用于显示器或太阳能电池的透明导电电极,使用h.f进行电弧放电离子镀。偏压施加到阳极或阴极
机译:用于沉积类金刚石薄膜的离子镀膜设备,能够使用电弧法进行常规镀膜以形成膜
机译:薄膜沉积系统的评估方法和控制方法以及TiN薄膜沉积方法
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