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裴志亮; 张小波; 王铁钢; 宫骏; 孙超; 闻立时;
中国科学院金属研究所;
直流反应磁控溅射; ZAO薄膜; 生长机制; 光电特性;
机译:直流反应磁控溅射制备ZnO:Al(ZAO)薄膜的研究
机译:射频磁控溅射制备掺G和不掺ped的ZnO:Al(ZAO)薄膜的结构,电学和光学性质
机译:低压金属有机化学气相沉积法制备ZnO / GaN / Al_2O_3和ZnO / Al_2O_3薄膜的性能比较研究
机译:透明导电ZnO:Al(ZAO)薄膜的XRD,光学电气性能研究
机译:Al / Au / ZnO阳极的腐蚀防护特性。
机译:溶液法制备双层ZnO / In2O3薄膜晶体管的电学特性研究
机译:利用ZnO:Al薄膜的结构和光学特性,研究Al掺杂剂在ZnO晶格中的位置
机译:用于射频mEms电容开关的替代介电薄膜,使用原子层沉积的al2O3 / ZnO合金沉积
机译:氧化锌(ZnO)基单晶纳米结构,制备ZnO基薄膜和ZnO基单晶薄膜,ZnO基单晶薄膜和ZnO基材料包含ZnO薄膜的方法
机译:制备Al掺杂的ZnO薄膜的方法
机译:气溶胶沉积法制备ZnO AZO和ITO薄膜的柔性耐久性和特性的方法
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