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王旭迪; 刘颖; 徐向东; 洪义麟; 付绍军;
中国科学技术大学;
国家同步辐射实验室;
合肥工业大学机械与汽车工程学院;
合肥230009;
BK; 刻蚀速率; 离子束刻蚀; 刻蚀工艺; 掩模; 图形转移; 刻蚀深度; 入射角; 束流; 光学材料;
机译:利用离子束诱导缺陷在熔融石英和BK7玻璃中可控合成铜纳米颗粒
机译:BK7和熔融石英玻璃纳米切入时切削特性的实验研究
机译:熔融石英基体的离子束刻蚀对355 nm减反射膜的激光损伤特性的影响
机译:切削液对钻石切割过程中玻璃BK7玻璃BK7的影响的实验研究
机译:低能量,质量分离离子束沉积和反应离子束刻蚀的研究
机译:BK7和熔融石英玻璃纳米切入切割中切削特性的实验研究
机译:BK7和熔融石英玻璃纳米切入切削特性的实验研究
机译:辐照晶体石英玻璃低温特性的进一步研究:中子和电子辐照
机译:具有抗紫外线特性的石英玻璃的生产方式及石英玻璃光学元件的特性
机译:用于半导体制造设施的石英玻璃组件和石英玻璃组件中材料研究的程序
机译:反应性离子或离子束蚀刻石英或石英玻璃以进行成型或结构化,在惰性材料制成的设备中使用含氟蚀刻气体以及其他含氟和/或氢气体
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