Simulations of the Dependence of Gas Physical Parameters on Deposition Variables during HFCVD Diamond Films

摘要

在钻石拍摄的热细丝化学药品蒸汽免职(HFCVD ) 的生长期间，在 2-D 的数字模拟数学模型被雇用在煤气的物理参数上调查各种各样的免职参数的影响包括温度，气体的速度和卷密度。甚至在优化免职参数的情况中，煤气的参数的空间分布是异构的，这被发现首先对热阻塞到期来自热细丝和低温实验法的泵效果从冷反应堆墙产生。卷密度的分发与热圆流动的现象同意了很好，到获得高生长的关键障碍之一在 HFCVD 评价进程。在有高温度或反应堆墙的断热的边界状况的等温的边界的优点，然而， thermalround 流动深刻地被减少并且作为后果，煤气的物理参数的一致性更加被改进，由试验性的电影生长识别了。