ZnO薄膜在硫蒸气中热硫化后结构和光学特性

摘要

采用射频反应磁控溅射沉积了ZnO薄膜,然后在硫蒸气中于500℃硫化得到ZnS薄膜。用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见透射光谱、俄歇电子能谱(AES)和多普勒展宽谱对薄膜进行了表征。ZnO硫化转变依赖于硫化时间。当硫化时间小于18 h时,ZnO只能部分转变为ZnS。只有当硫化时间等于或大于18h时,才能完全生成六方相ZnS薄膜,沿(0 0 10)晶面择优生长,硫化前后薄膜晶粒尺寸有显著变化。所得ZnS薄膜光吸收边宽化、光透过率低,ZnS薄膜带隙为3.54～3.66 eV。