首页> 中文期刊>半导体光电 >x—射线对晶格常数的测定及其在半导体领域中的应用

x—射线对晶格常数的测定及其在半导体领域中的应用

     

摘要

本文叙述了 X—射线衍的基本原理。用粉未德拜照相法及衍射仪法测定了Si、GaAs、GaP 及 ZnSe 几种半导体材料的晶格常数。对两种测量方法的精确度进行了比较。文中还介绍了 X—射线在半导体领域中的一些应用。

著录项

  • 来源
    《半导体光电》|1979年第3期|21-31|共11页
  • 作者

    郭志威;

  • 作者单位
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号