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刘凤岐;
骊山微电子公司;
机译:扫描型开发技术,可提高半导体光掩模的精度:支持先进半导体器件制造的光掩模图案的精度更高
机译:扫描型开发技术提高了半导体的光掩模精度:高精度的光掩模图案,支撑尖端半导体器件的制造
机译:与32纳米及以后兼容的光掩模技术使用精细图案的新型二进制掩模
机译:减少多重图案光掩模制作中的图像放置错误
机译:预测由于在吸盘过程中夹带颗粒而导致的极端紫外线光刻掩模的图案表面变形。
机译:通过体外无掩模光图案法按需分离和操纵秀丽隐杆线虫
机译:高速二维图案发生器使用多DSPS的并行处理,用于PCB光掩模的图案检查。
机译:可变光传输掩模的摄影制作
机译:在光掩模中制作精细图案的方法
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