首页> 中文期刊> 《金属学报》 >弥散CeO2对高温下α-Al2O3氧化膜初期生长的影响

弥散CeO2对高温下α-Al2O3氧化膜初期生长的影响

         

摘要

在研究1000及1100℃下含弥散CeO2的NiAl基表面α─Al2O3氧化膜初期生长的微观形貌及化学组成的基础上,分析了弥散氧化物质点对氧化初期表层扩散通量的影响,解析出了氧化物质点对表层元素扩散通量的贡献项,进而研究了氧化温度、弥散氧化物质点的尺寸、含量及分布等因素对弥散氧化物质点促进Al2O3形成的影响,并解释了突出颗粒状生长等实验结果。同时,探讨了弥散氧化物质点促进保护性氧化膜形核和增强氧化膜再生能力的机制。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号