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关于氮化硼扩散几个工艺问题的探讨

         

摘要

<正> 在集成电路的生产中,已广泛采用氮化硼扩散源、新型片状氮化硼也正被推广应用,用氮化硼做扩散源,具有工艺稳定、易于掌握、扩散电阻均匀、器件结特性好等优点。我厂采用氮化硼扩散源已两年多,对稳定工艺,提高产品合格率起到了较好的效果。在实际应用中,也遇到过一些工艺问题。探讨和解决这些问题,对于进一步提高产品质量,提高合格率以及更好地推广应用氮化硼扩散源都是十分有益的。

著录项

  • 来源
    《半导体技术》 |1978年第2期|19-21|共3页
  • 作者

  • 作者单位

    八七七厂;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
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