首页> 中文期刊> 《半导体技术》 >洁净硅片表面初始氧化态的AES研究

洁净硅片表面初始氧化态的AES研究

开具论文收录证明 >>

文献代查 >>

文献数据库（团队版） >>

页面导航

摘要
著录项
引文网络
相似文献
相关主题

摘要

＜正＞已有不少学者研究了常温下洁净硅片表面对氧的吸附和随后发生的硅的自然氧化问题.一九七五年S、I、Raider等人曾用ESCA研究了用HF腐蚀过的洁净硅片表面对氧的吸附.他们发现用ESCA所测得的表面氧大部分是吸附的,而不是处于化合状态.C.M.Car-ner等人的研究也认为洁净硅片表面所覆盖

著录项

来源
《半导体技术》 |1987年第1期|45-48|共4页
作者
王化文; 王乃铸; 顾香春;
展开▼
作者单位

北京东光电工厂;

电子工业部十二所;

电子工业部十二所;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类
关键词

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 铌表面初始氧化行为的EELS和AES研究 [J] . 陆雷 ,白彬 ,邹觉生 . 稀有金属材料与工程 . 2004,第8期
2. 铀表面离子镀铝层初始氧化EELS和AES原位研究 [J] . 白彬 ,鲜晓斌 ,吕学超 . 核科学与工程 . 2003,第4期
3. 洁净硅片在真空中加热时表面状态的XPS谱研究 [J] . 叶志镇 ,袁骏 . 真空科学与技术 . 1995,第3期
4. XPS/AES研究室温下铀基氮化层的表面氧化 [J] . 罗立力 ,刘柯钊 ,罗丽珠 . 原子能科学技术 . 2013,第6期
5. 铀表面钛镀层原位氧化行为的AES和EELS研究 [J] . 白彬 ,鲜晓斌 ,杨江荣 . 核动力工程 . 2003,第5期
6. 金属铀初始氧化过程的AES和EELS研究 [C] . 陆雷 ,白彬 ,邹觉生 . 第四届全国腐蚀大会 . 2003
7. 金属铀表面氮化层抗氧化机理的XPS/AES研究 [A] . 罗立力 . 2012

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号