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程世昌; 傅德君; 吴周桥; 张维琴;
武汉大学物理系离子束物理研究室;
机译:电化学沉积制备类金刚石碳膜和氮掺杂类金刚石碳膜的场发射特性
机译:类金刚石碳膜中残余应力与光吸收边缘的相关性
机译:硼氮共掺杂对磁控溅射沉积类金刚石碳膜硬度和电阻率的补偿作用
机译:类金刚石碳膜场发射四面体特性的理论和实验研究
机译:类金刚石碳膜和金刚石膜的生长和特征:原子氢束的作用和电子场发射的研究。
机译:通过离子注入研究氢化轻掺杂B掺杂金刚石的低电阻率
机译:具有类金刚石特性的碳膜的双离子束沉积
机译:通过KrF-和arF-准分子激光pLD生长无定形类金刚石碳膜:与羽流特性的相关性
机译:基于类金刚石制品的弯曲特性,使用类金刚石碳(DLC)涂层和具有氧含量的保护膜的保护膜制备热处理的涂层制品的方法
机译:基于涂膜弯曲特性的类金刚石碳膜和涂有保护膜氧含量的保护膜的热处理过的涂层制品的方法
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