微波ECR等离子体刻蚀系统

摘要

研制成功了一台微波电子回旋共振等离子体刻蚀系统。该系统采用微波通过同轴开口电介质空腔产生表面波 ,由Nd Fe B永磁磁钢形成高强磁场 ,通过共振磁场区域内的电子回旋共振效应产生大面积、均匀、高密度等离子体。利用该系统实现了SiO2 、SiN、SiC、Si等材料的微细图形刻蚀 ,刻蚀速度分别为 2 0 0nm/min ,5 0 0nm/min ,4 0 0nm/min ,70 0nm/min ,加工硅圆片Φ2 0 0mm ,线条宽度 ＜0 3μm ,选择性 （SiO2 、Si） ＞2 0 ,剖面控制 ＞83° ,均匀性 95 % ,等离子体密度 2 0× 10 11cm-3 。电离度大（＞10 % ） ,工作气压低 （1Pa～ 10 -3 Pa） ,均匀性好 ,工艺设备简单 ,参数易于控制等优点。