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气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评

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本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评 ,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积（PCVD）的优势、进展及其在工模具领域的应用

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来源
《真空科学与技术学报》 |2002年第6期||共页
作者
马胜利徐可为介万奇;
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作者单位

西北工业大学金属凝固技术国家重点实验室;

西安交通大学金属材料强度国家重点实验室;

西北工业大学金属凝固技术国家重点实验室西安710072西安交通大学金属材料强度国家重点实验室西安710049;

西安710049;

西安710072;

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正文语种 chi
中图分类 TN304.05;
关键词
气相沉积技术; 硬质薄膜; PCVD;

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