软受限条件下嵌段共聚物薄膜缺陷消除的理论研究

摘要

理解缺陷消除机理对于制备无缺陷的长程有序嵌段共聚物薄膜至关重要.本文利用弦方法结合自洽平均场理论研究了接枝均聚物高分子刷在AB两嵌段共聚物垂直层薄膜的偶极位错缺陷消除中发挥的作用.研究发现,高分子刷的“浸润效应”和“重排效应”能够降低胁的有效值,增大跳跃扩散的扩散系数,进而促进“桥连”结构的形成.并且,接枝高分子刷的基底表面的“硬度”越小,以上2种效应越显著,越能进一步降低缺陷消除过程中形成“桥连”结构这一关键步骤的能垒.