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薛宏伟; 米姣; 袁肇耿; 王刚; 张志勤;
河北普兴电子科技股份有限公司;
石家庄050200;
河北省硅基外延材料工程技术研究中心;
硅外延片; 超高阻; 多次本征工艺; 低温外延; 无HCl抛光; 电阻率不均匀性;
机译:在高迁移率沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的体硅衬底上的应变硅锗梯度薄层上纯锗外延生长
机译:掺Nb的SrTiO _3衬底上外延NiO薄膜的双极阻变特性
机译:在硅衬底上的薄外延硅层上制备的多孔硅的结构和光学性质
机译:硅衬底上异质外延SrRuO_3薄膜的制备及其在SrRuO_3底部电极上沉积的BaTiO_3-NiFe_2O_4外延复合薄膜的微观结构
机译:通过金属有机气相外延在蓝宝石和块状氮化铝衬底上生长的掺硅氮化铝镓和紫外发光二极管的复合动力学
机译:通过无金属催化剂工艺在硅衬底上生长外延硅纳米线
机译:多波长拉曼光谱在快速热退火过程中非接触监测硅衬底上掺硼外延Si1-xGex双层中Ge和B的扩散
机译:用OmVpE(有机金属气相外延)在硅衬底上生长外延Gaas和Gaalas。
机译:在重掺杂硅衬底上外延沉积硅层的工艺
机译:在重掺杂硅衬底上外延沉积硅层
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