Al的沉积速率对Al/Ge双层膜分形晶化的影响

摘要

Al/Ge薄膜中斑图(pattern)的形成是一种非平衡生长现象,随着非线性科学的发展,近年来这方面的工作引起了人们极大的兴趣.较有代表性的工作如Deutscher和Lereah在原位退火Al-Ge非晶合金膜时发现的密集分叉形貌(Dense branching morphology),Sanchez等人观察到的多标度分形生长等.由于非线性系统对初始生长条件、边界条件细微变化固有的敏感性,不同形貌班图精确的形成条件是难以预测的,即使在相同的实验条件下。