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张辉; 王晓波; 张炜鑫; 巩春志; 田修波;
哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室;
中国工程物理研究院材料研究所;
CRN; 高功率脉冲磁控溅射; 偏压; 阻氢; 高温抗氧化;
机译:调制结构对高功率脉冲磁控溅射制备的TiAlsin / CrN薄膜微结构和力学性能的影响
机译:脉冲频率和基体偏压对脉冲直流磁控溅射沉积CrN涂层力学性能的影响
机译:偏压对双胞胎术反应高功率脉冲磁控溅射制备的Al2O3薄膜微结构和光学性能的影响
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:AlN中间层对大功率脉冲磁控溅射SiC薄膜结构和化学性能的影响
机译:基材转速对使用大功率脉冲磁控溅射制备的CRN / Cralin多层涂层结构和粘附性能的影响
机译:偏压,内应力和基体对pvd耐磨涂层组织和性能的影响
机译:高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)在多孔基体中进行深金属沉积,金属催化剂浸渍的多孔基质及其用途
机译:制造薄膜太阳能电池的方法,涉及通过在脉冲期间具有特定脉冲频率和功率密度的脉冲磁控溅射在保护层上沉积透明导电氧化物层作为前接触层。
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