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董亭亭; 付跃刚;
长春理工大学光电工程学院;
抗反射结构; 反应离子刻蚀; 严格耦合波分析; 圆柱孔微结构;
机译:具有宽带光吸收特性(001)Si衬底上垂直Si纳米孔的周期阵列的容纳制造
机译:(001)Si衬底上具有宽带光吸收特性的垂直Si纳米孔周期性阵列的便捷制造
机译:使用N $ _2 $ NANOSECOND脉冲激光器在SI表面上产生微结构和极端亚波长激光诱导的周期性结构,用于减少反射率
机译:红外防反射双周期性微结构表面的设计和制造
机译:具有降低的驱动电压和具有共形抗反射表面的虹膜的可调微透镜的新颖设计
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制造的三角形孔阵列
机译:纳秒脉冲激光形成si表面的混合微结构用于宽带抗反射
机译:sOI / CmOs(si-On-Insulator / CmOs)电路在siO2涂层si衬底上的区域熔化 - 再结晶si薄膜中制造
机译:用于制造能够在衬底表面上形成防止孔的Si模板的Si模板和SiC单晶化薄膜的制造方法
机译:改善抗反射涂层的层的适形性并用于形成第一金属层的步骤包括:准备在衬底表面上形成有介电层的衬底,并进行进一步处理
机译:用于制造多功能SI-抗反射涂层的热固硅树脂,该涂层包括能够简化半导体工艺的SILICONE和用热固硅树脂制造的SI-抗反射涂层
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