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李玲; 薛涛; 宋忠孝; 张小宁; 刘纯亮;
西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室;
山东大学信息科学与工程学院;
西安交通大学金属材料强度国家重点实验室;
IGZO薄膜; 氧分压; 薄膜特性; 磁控溅射;
机译:通过脉冲直流磁控溅射沉积改善IGZO薄膜晶体管的器件特性
机译:氧分压对使用SpeedFlo控制器进行脉冲直流反应磁控溅射制备的ZnO / Al薄膜性能的影响
机译:氧分压对非对称双极脉冲直流磁控溅射TiO2薄膜性能的影响
机译:氧分压影响直流磁控溅射ZrO_2薄膜的结构和光学性能
机译:直流反应磁控溅射沉积的新型薄膜透明导电氧化物。
机译:射频直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子输运和晶体学取向特征
机译:直流反应磁控溅射沉积的TiO2薄膜的氧分压依赖性
机译:反应直流磁控溅射合成混合价铼氧化物薄膜的光化学性质。
机译:磁控溅射制备IGZO薄膜的方法
机译:大功率脉冲磁控溅射物理气相沉积电介质薄膜的脉冲直流源及其应用方法
机译:大功率脉冲磁控溅射物理气相沉积介电薄膜的脉冲直流源及其应用方法
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