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张名川; 靖向萌; 王京; 杨盟; 于大全;
中国科学院微电子研究所系统封装研究室;
华进半导体封装先导技术研发中心有限公司;
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司;
玻璃通孔; 感应耦合等离子体刻蚀; 刻蚀速率; 正交实验;
机译:用于3D-IC封装应用的电感耦合等离子体反应离子刻蚀(ICP-RIE)对玻璃通孔(TGV)工艺制造的研究
机译:使用ICP低温反应离子刻蚀工艺对硅进行浅而深的干法刻蚀
机译:石英玻璃电感耦合等离子体反应离子刻蚀制备玻璃贯通(TGV)工艺的研究
机译:Zerodur微晶玻璃旋转超声加工的优化与工艺建模研究
机译:废水处理中毒性评估的相关性:案例研究-将四种Fenton工艺应用于C.I.矿化酸性红14
机译:应用于玻璃汽化室的计算流体动力学(CFD),用于将微型或纳米尺寸样本引入基于实验室的ICP和CFD衍生的(并且通过3D打印)的CFD衍生的(并且通过3D打印)的便携式微量腔室
机译:将包覆玻璃应用于GsGG晶体边缘的工艺开发:最终技术报告
机译:玻璃基板的临时保护包括在玻璃基板上施加聚合物保护层,并在完成玻璃基板的保护功能后通过等离子刻蚀工艺去除聚合物保护层。
机译:应用于铁电RAM器件的氮化硅薄膜和氧化铟薄膜的选择性刻蚀工艺
机译:应用于环保产品的加工固体残渣制备颗粒活性炭的工艺研究。
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