超微细加工及设备

摘要

TN305.7 98053474 光刻技术的发展动态=Development trend oflithography technology[刊,中]/谢常青(中科院微电子中心。北京(100010))∥半导体情报。—1997,34(6).—12—19介绍了目前几种主流光刻技术,包括光学光刻、电子束光刻、X射线光刻和离子束光剂的发展动态。表4参7(赵桂云)TN305.7 98053475激光雕刻的微机控制系统=System of laser carv—