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若干有机非线性光学材料的分子设计及三阶非线性光学性质的理论研究

         
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摘要

以INDO/SCI方法为基础,利用完全态求和(SOS)公式,计算了若干有机非线性光学材料分子的三阶非线性光学系数γ(-w;w,-w,w)和γ(0;0,0,O),研究了γ与分子骨架、给电子取代基、噻吩环数目即:共轭分子链长的关系.设计了较大γ的新型非线性光学材料分子.

著录项

  • 来源
    《结构化学》 |2000年第1期|57-63|共7页
  • 作者

    付伟; 封继康; 任爱民; 孙秀云; 金宏威; 王江洪; 沈玉全;

  • 作者单位

    吉林大学理论化学研究所,理论化学计算国家重点实验室,超分子结构及谱学开放实验室,长春,130023;

    吉林大学理论化学研究所,理论化学计算国家重点实验室,超分子结构及谱学开放实验室,长春,130023;

    吉林大学理论化学研究所,理论化学计算国家重点实验室,超分子结构及谱学开放实验室,长春,130023;

    吉林大学理论化学研究所,理论化学计算国家重点实验室,超分子结构及谱学开放实验室,长春,130023;

    吉林大学理论化学研究所,理论化学计算国家重点实验室,超分子结构及谱学开放实验室,长春,130023;

    中国科学院感光化学研究所,北京,100101;

    中国科学院感光化学研究所,北京,100101;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 其他材料;
  • 关键词

    三阶非线性光学系数; 有机非线性光学材料; 分子设计; 理论研究;

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