表面分析：X射线光电子能谱学和俄歇电子能谱学

摘要

本篇是关于X射线光电子能谱学(XPS)——X-Ray Photoelectron Spectroscopy)和俄歇电子能谱学(AES——Auger ElectronSpectroscopy)的基础综述,包括了1985年11月18日到1987年11月6日之间《化学文摘》上的所有文献。为了方便读者,本综述共分三个部分:一、X射线光电子能谱学(XPS);二、俄歇电子能谱学(AES);三、XPS-AES联用。对于那些仅用这些技术之一的人,其它两部分也许有他感兴趣的内容。XPS和AES被广泛地用于表面分析。大约自1970年至今,这两种技术取得了科学界公认的进展。其中大部分工作已在早些时候的《分析化学》