四氨基钴酞菁(CoTAPc)在金电极上成膜过程的研究

张晓敏; 任春生; 应敏

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四氨基钴酞菁(CoTAPc)在金电极上成膜过程的研究

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采用循环伏安法和石英晶体微天平(QCM)技术对四氨基钴酞菁(CoTAPc)在金电极上的聚合成膜过程进行了研究,考察了扫描速度、溶剂、支持电解质及单体浓度对其成膜过程的影响,同时初步探讨了聚合膜分别在非水溶液和水溶液中的氧化还原行为及稳定性,其中借助EQCM重点讨论了在这些过程中溶液中离子在膜中传输的机理.

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来源
《传感技术学报》 |2004年第2期|306-313|共8页
作者
张晓敏; 任春生; 应敏;
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作者单位

东华理工学院应用化学系,抚州,江西,344000;

河海大学环境工程与科学院,南京,210098;

浙江万里学院,宁波,浙江,315100;

东华理工学院应用化学系,抚州,江西,344000;

浙江万里学院,宁波,浙江,315100;

东华理工学院应用化学系,抚州,江西,344000;

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正文语种 chi
中图分类 TP212.2;
关键词
石英晶体微天平; 循环伏安法; 四氨基钴酞菁; 成膜过程; 离子传输;

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