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CdSe薄膜晶体管制备工艺的研究

         

摘要

对CdSe-TFT的制作工艺进行了探索,对TFT矩阵的关键材料--半导体层CdSe的性质进行了研究.利用zc-36型高阻仪研究了CdSe薄膜电阻率随蒸发速率的变化,用三探针法和Curve Tracet QT-2对TFT样管的基本电性能进行了测试,得到载流子迁移率为170cm2/V·s,OFF态电流小于lO-10A,ON态电流为10-4A.

著录项

  • 来源
    《液晶与显示》 |2000年第1期|35-39|共5页
  • 作者单位

    中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130021;

    中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130021;

    中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130021;

    中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130021;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TN321.5;
  • 关键词

    CdSe; 薄膜晶体管; 迁移率;

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