光谱电化学研究α—巯基苯并噻唑对铜的缓蚀机理

摘要

我们运用现场光谱电化学方法研究了α－巯基苯并噻唑对铜的缓蚀机理。研究表明α－巯基苯并噻唑是通过在金属铜表面形成一层致密的非水溶性配合物膜ＣｕⅠ－ＭＢＴ而起缓蚀作用的。