阵列式薄膜锰铜计的动态压阻响应研究

摘要

利用直流磁控溅射薄膜工艺制备阵列式薄膜锰铜压阻计,以氧化铝作为基片和绝缘封装材料.在结构上,4个具有相同阻值的薄膜锰铜计在同一氧化铝基片上呈对称分布.51.72 GPa压力下的动态加载实验表明,4个计的压阻一致性好,无高压旁路效应,验证了薄膜锰铜压阻计动态测试的准确性和可靠性.