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磁控溅射氧化钛薄膜在不同溅射温度下的光电性能研究

         

摘要

通过磁控反应溅射,在玻璃基底上制备了不同溅射温度下的氧化钛薄膜.通过对其光电性能的分析测试,探讨了溅射温度对氧化钛薄膜性能的影响.实验表明:低温溅射下,薄膜表面颗粒较小,结构较为疏松,高温溅射下,薄膜颗粒较大,薄膜表面颗粒出现团聚现象;随着溅射温度的升高,溅射速率减小;薄膜方阻减小,载流子浓度增大;溅射温度越高,薄膜在紫外可见光波段内透射越弱,光学带隙越小.

著录项

  • 来源
    《电子器件》 |2010年第5期|536-540|共5页
  • 作者单位

    电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 溅射;
  • 关键词

    氧化钛薄膜; 溅射温度; 直流反应溅射; 光电性能;

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