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马捷; 刘玮玮; 王从曾; 常靖华;
北京工业大学,材料科学与工程学院,功能材料教育部重点实验室,北京,100124;
化学气相沉积; 钨; 组织; 性能;
机译:基材温度对APCVD制备的纳米晶氧化锡涂层显微组织性能的影响
机译:HFCVD系统中衬底温度变化对氧化钨薄膜生长的影响
机译:升温速率对液相烧结钨重合金显微组织性能的影响
机译:阐明金属沉积层对脉冲等离子体热流向钨材料的流入过程的影响
机译:氮化硅和硬质碳化钨工具上的微波辅助CVD金刚石涂层的分析和实验研究以及几种过渡金属上多晶金刚石的生长
机译:热机械控制工艺后的回火温度对高钒X80管线钢的组织性能和氢致延展性的影响
机译:钨和钼及其硅化物的CVD羰基薄膜 - 一种良好的CVD氟化钨技术替代品
机译:CVD反应器中化学和传输现象的详细建模。应用于钨LpCVD(Gedetailleerde modellering van Chemie en Transportverschijnselen in CVD Reactoren。Toepassing op Wolfraam LpCVD)
机译:一种在腔室中通过cvd在半导体晶片上沉积层的方法以及一种在腔室中通过cvd在半导体晶片上沉积层的腔室
机译:在CVD反应器中和在CVD反应器中在衬底上沉积层的方法,该CVD反应器具有在带中延伸的气体入口区
机译:原位CVD金属化工艺,用于降低阻挡层金属的温度对金属膜和杂质区之间的接触电阻以及CVD设备的影响
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