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李坤; 高岗; 杨磊; 夏菲; 孙春强; 滕祥青; 张宇民; 朱嘉琦;
哈尔滨工业大学特种环境复合材料技术国家级重点实验室;
哈尔滨工业大学分析测试中心;
哈尔滨工业大学微系统与微结构制造教育部重点实验室;
磁控溅射; 高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS); 离化率; 硬质膜; 透明导电薄膜;
机译:放电电流对HiPIMS制造高质量多晶VO 2薄膜相变性能的影响
机译:Hipims制备Tizrnbtafen高熵合金涂层:氮流速对微观结构发育,机械和摩擦学性能,电性能和腐蚀特性的影响
机译:中空型靶结构及薄膜形成应用的Hipims电气特性
机译:硅化物和器件结构对有源矩阵液晶显示器用多晶硅薄膜晶体管的特性和电路性能的影响。
机译:放电电流对HiPIMS制备高质量多晶VO2薄膜相变性能的影响
机译:HIPIMS生长的替代TIBX薄膜的微观结构和材料性能
机译:溅射mos2薄膜的电子结构,材料特性和润滑性能的基本方面
机译:阻燃聚碳酸脂,具有改善阻燃特性,粘合性能和机械性能的薄膜性能
机译:利用晶体特性的薄膜结构零基板温度特性薄膜形成
机译:具有改善的制造和性能特性的薄膜晶体管以及具有该薄膜晶体管的显示装置
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