离子轰击对HIPIMS制备TiN薄膜结构和性能的影响

摘要

采用高功率脉冲磁控溅射技术制备TiN薄膜,通过基架自转与固定的调节方式,研究了离子轰击对所制备TiN薄膜结构和性能的影响。采用台阶仪测量薄膜的厚度,采用场发射扫描电镜、扫描探针显微镜、X射线衍射仪测试薄膜的表面形貌特征以及组织结构,采用纳米压痕仪测试薄膜的硬度以及弹性模量,采用划痕仪测试膜基结合力,采用电化学工作站测量薄膜的耐腐蚀性能。实验结果表明,在基架固定时,由于薄膜受到持续的离子轰击作用,所制备的TiN薄膜具有更致密的结构,更光滑的表面,更好的结晶性,更优异的机械性能和更良好的耐腐蚀性能。