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机译:2011年1月至6月,中国计算机横机市场简析%2011年1月至6月,中国计算机横机市场简述
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机译:这是2001年10月2日提交的美国申请号09 / 968,023(轻金属阳极氧化本申请)的部分继续申请,2001年10月19日提交的美国申请号10 / 033,554是该问题的部分继续申请,它是2002年6月5日提交的美国申请10 / 162,965的部分继续申请。
机译:陷波器反光板本申请是美国专利申请序列号1,200,200的部分继续。于2004年6月14日提交并转让给本发明的受让人的美国专利第10 / 867,956号(目前被放弃)。这是美国专利申请Ser的部分继续。 2004年9月29日提交的,转让给本发明的受让人的美国专利No.10 / 955,834(通过引用并入本文)。该申请与美国专利申请序列号(Ser)有关。于2003年4月23日提交并转让给本发明的受让人的美国专利第10 / 423,371号将其并入本文。
机译:交叉引用该方法的材料相关申请和使用面漆对深紫外光致抗蚀剂成像的申请,2004年3月9日提交的美国专利申请序列号10 / 796,376。这是美国的部分继续申请。 2004年6月24日提交的序列号为10 / 875,596的专利申请是部分继续申请。这些应用程序说明的内容应视为已在此处发布。
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