X射线光电子能谱技术在高分子材料摩擦化学研究中的应用

石光; 章明秋; 容敏智; Klaus Friedrich

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X射线光电子能谱技术在高分子材料摩擦化学研究中的应用

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X射线光电子能谱技术(XPS)是材料表面分析的重要手段,其近年的快速发展促进了表面化学领域研究的深入.高分子及其复合材料在摩擦学性能方面具有普遍的优势,通过XPS对高分子及其复合材料摩擦表面的分析,可以确定摩擦过程的化学变化,并对改进材料的摩擦学性能起到理论的指导作用.作者主要介绍XPS技术的基本原理,及其在高分子与复合材料摩擦学性能研究中的应用.

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来源
《化学研究》|2004年第3期|76-80|共5页
作者
石光; 章明秋; 容敏智; Klaus Friedrich;
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作者单位

华南师范大学化学系,广州,510631;

中山大学,材料科学研究所,聚合物复合材料及功能材料教育部重点实验室,广州,510275;

中山大学,材料科学研究所,聚合物复合材料及功能材料教育部重点实验室,广州,510275;

Institute for Composite Materials, University of Kaiserslautern, D-67663 Kaiserslautern, Germany;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类聚合类树脂及塑料;
关键词
X射线光电子能谱; 结合能; 摩擦化学; 高分子材料;

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