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溅射参数对ZnO薄膜物性的影响

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摘要

采用磁控溅射方法分别在ITO玻璃和硅片上成功制备了具有良好C轴取向的ZnO薄膜. 并研究了溅射气压,基底温度,以及氧偏压对ZnO薄膜物性的影响,从而确定了制备ZnO薄膜的最佳溅射条件.

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来源
《化学研究》|2007年第4期|83-85|共3页
作者
张丽明; 王莹;
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作者单位

商丘职业技术学院,河南,商丘,476000;

商丘职业技术学院,河南,商丘,476000;

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正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
ZnO薄膜; 溅射气压; 基底温度; 磁控溅射;

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