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陈明; 李元昌; 洪啸吟; 焦晓明; 程爱萍;
清华大学化学系,北京,100084;
北京化学试剂所,北京,100022;
化学增幅; 光敏产酸物; 阻溶剂; 负性光致抗蚀剂; 正性光致抗蚀剂;
机译:化学增幅EUV抗蚀剂中的金属增敏剂:增敏和溶解度研究
机译:化学增幅抗蚀剂对EUV的脱保护反应分析
机译:用于BEOL抗蚀剂剥离的臭氧化学-一种系统的分析尝试,旨在了解O3与现代DUV抗蚀剂之间的相互作用
机译:化学增幅抗蚀剂表面抑制不溶层生成的研究
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:KDP油包水型微乳液用于KDP晶体的超精密化学机械抛光
机译:使用化学放大的表面甲硅烷基化的单层抗蚀剂:多层抗蚀剂系统的一种新的更简单的替代方案。
机译:光化学挥发性聚硅烷:一种新型自发光深紫外线抗蚀剂
机译:用于化学增幅型光致抗蚀剂的聚合物,一种化学增幅型光致抗蚀剂组合物及其制备方法
机译:用于低温干蚀刻的正负性工作化学增幅型光致抗蚀剂组合物,以及使用其的光致抗蚀剂图案形成方法
机译:制造具有光致抗蚀剂的化学增幅型光致抗蚀剂的共聚物和具有正光致抗蚀剂的化学增幅型正光致抗蚀剂组合物
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