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【2h】

A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification: A New Simpler Alternative for Multilayer Resist System.

机译：使用化学放大的表面甲硅烷基化的单层抗蚀剂：多层抗蚀剂系统的一种新的更简单的替代方案。

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Kazuyuki Sugita; Masakuni Ikagawa; Liew Chan Ming; Masahiro Yamashita; Kieko Harada; Masahito Kushida; Kyoichi Saito;
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年度 2000
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1. A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification: A New Simpler Alternative for Multilayer Resist System [J] . Kazuyuki Sugita, Masakuni Ikagawa, Liew Chan Ming, Journal of Photopolymer Science and Technology . 2000,第4期

机译：使用化学放大的表面甲硅烷基化的单层抗蚀剂：多层抗蚀剂系统的新型更简单的替代方案
2. A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep UV Lithography:IIIb. Optimization of PAG and Its Content [J] . Kazuyuki Sugita, Hiroshi Miyata, Kieko Harada Journal of Photopolymer Science and Technology . 2004,第3期

机译：使用化学放大的深紫外光刻技术的表面硅烷化单层抗蚀剂：IIIb。 PAG的优化及其含量
3. A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep-UV and Vacuum-UV Lithography [J] . Kazuyuki Sugita, Masahiro Yamashita, Kieko Harada, Journal of Photopolymer Science and Technology . 2002,第3期

机译：使用化学放大技术进行深紫外和真空紫外光刻的表面硅烷化单层抗蚀剂
4. Novel single-layer chemically amplified resist for 193-nm lithography [C] . Sang-Jun Choi, Samsung Electronics Co., Ltd., Advances in Resist Technology and Processing XIV . 1997

机译：用于193 nm光刻的新型单层化学放大抗蚀剂
5. Surface chemistry study of gallium arsenide wafers during chemically amplified resist patterning and resist studies with fluorescence. [D] . Lu, Bing. 2000

机译：砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行，并通过荧光进行抗蚀剂研究。
6. Fabricating a high-resolution mask with improved line-edge roughness by using a nonchemically amplified resist and a postexposure bake [O] . Hidetatsu Miyoshi, Jun Taniguchi -1

机译：通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
7. A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep-UV and Vacuum-UV Lithography. [O] . Kazuyuki SUGITA, Masahiro YAMASHITA, Kieko HARADA, 2002

机译：使用化学扩增的表面甲硅烷基化的单层抗蚀剂，用于深紫色和真空 - UV光刻。

A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification: A New Simpler Alternative for Multilayer Resist System.

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