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相分离高分子共混薄膜退火和准淬火的原位原子力显微镜研究

     

摘要

近年来,高分子共混薄膜在选择性渗透膜、生物材料、润滑剂、粘结剂、光敏电阻平板印刷、光电器件及纳米尺寸表面图案化等方面的研究日益受到重视,应用前景也十分可观,然而,由于其相容性较差,高分子共混物常发生相分离,相对于本体,表面的分子链具有更大的自由度,因此表面高分子链的热运动状态与本体有很大差别,为控制因相分离而导致的相区尺寸,人们必须同时对相分离热力学及动力学行为进行研究。

著录项

  • 来源
    《高等学校化学学报》|2005年第9期|1777-1779|共3页
  • 作者单位

    中国科学院长春应用化学研究所,高分子物理与化学国家重点实验室,长春,130022;

    中国科学院长春应用化学研究所,高分子物理与化学国家重点实验室,长春,130022;

    中国科学院长春应用化学研究所,高分子物理与化学国家重点实验室,长春,130022;

    中国科学院长春应用化学研究所,高分子物理与化学国家重点实验室,长春,130022;

    中国科学院长春应用化学研究所,高分子物理与化学国家重点实验室,长春,130022;

    中国科学院长春应用化学研究所,高分子物理与化学国家重点实验室,长春,130022;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 高分子物理和高分子物理化学;
  • 关键词

    高分子共混; 薄膜; 相分离; 退火; 淬火; 原位; 原子力显微镜;

  • 入库时间 2023-07-24 20:01:00

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