首页> 中文期刊> 《陶瓷》 >溅射SiOx薄膜氧含量与红外特性关系研究

溅射SiOx薄膜氧含量与红外特性关系研究

             

摘要

用反应溅射法制成了SiO2薄膜,研究其傅立叶变换红外吸收光谱图特性.Si-O-Si键的伸缩振动吸收峰和弯曲振动吸收峰分别位于1 100cm-1和600 cm-1附近.结合XPS定量测试结果讨论了吸收峰与薄膜中氧含量的关系,目的用FTIR非破坏性快速方便预测SiOx薄膜的化学配比.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号