CxH1-x薄膜制备

吴卫东; 罗江山; 张占文; 黄勇

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CxH1-x薄膜制备

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以反式-2-丁烯为工作气体,采用低压等离子体化学气相沉积法制备CxH1-x薄膜.研究了在不同的H2与反式-2-丁烯流量比下制备的CxH1-x薄膜的傅里叶变换红外光谱(FT-IR)及xPS谱的特性.初步探讨了CxH1-x的生长机理.膜中sp3杂化碳原子和sp2杂化碳原子的数量以及两者的比例与沉积条件有关.

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来源
《原子能科学技术》 |1999年第4期|319-322|共4页
作者
吴卫东; 罗江山; 张占文; 黄勇;
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作者单位

中国工程物理研究院核物理与化学研究所,成都,610003;

中国工程物理研究院核物理与化学研究所,成都,610003;

中国工程物理研究院核物理与化学研究所,成都,610003;

中国工程物理研究院核物理与化学研究所,成都,610003;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
低压等离子体; CxH1-x薄膜; 傅里叶变换红外光谱; xPS谱;

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