α-CxNy:H1-x-y薄膜的制备和光学性能分析

摘要

采用外置式电容耦合低压等离子体化学气相沉积法,以高纯CH4/N2/H2作为反应气体,制备非晶α-CxNy:H1-x-y薄膜.研究了薄膜沉积速率和入射功率之间的关系,随着功率增大,薄膜沉积速率先增大后减小;SEM图像表明薄膜无层状、柱状结构;AFM图像表明薄膜粗糙度在0.2～0.3 nm之间;傅里叶红外光谱(FTIR)显示了薄膜的成键情况;紫外-可见-近红外光谱表明,随着入射功率的增大,薄膜的光学带隙逐渐减小.