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纳米TiOx光学薄膜的制备及性能分析

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报道用常压化学汽相沉积(APCVD)工艺制备TiO x纳米光学薄膜的研究结果,分析衬底温度对薄膜结构及折射率的影响,讨论在抛光硅片及绒面硅片上制备的TiOx薄膜光学减反射特性,并优化了工艺条件.

著录项

来源
《应用光学》 |2001年第5期|43-45|共3页
作者
王鹤; 杨宏;
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作者单位

西安交通大学理学院陕西西安 710049;

西安交通大学理学院陕西西安 710049;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜技术;
关键词
纳米; TiOx薄膜; 常压化学汽相沉积;

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