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脉冲测量技术越过高K材料电荷捕获的壁垒

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由于高介电常数的栅电路结构在俘获电荷机制上存在负面影响,常规的直流量测技术已经捉襟见肘了.脉冲电流-电压量测技术能够彻底解决这一难题,从而得到高介电常数栅电路结构晶体管的本征电学表现.

著录项

来源
《集成电路应用》 |2006年第6期|24-27|共4页
作者
Y. Zhao; C.D. Young; R. Choi; B.H. Lee;
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作者单位

Keithley Instruments Inc;

Sematech;

Sematech;

Sematech;

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