首页> 中文期刊> 《集成电路应用》 >现场制氟:用于CVD工艺的可持续清洗

现场制氟:用于CVD工艺的可持续清洗

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

在薄膜制备过程中,微粒和分子清洁度对高工艺产出起着至关重要的作用。对于化学气相沉积(CVD)工艺腔室而言,由对氟气或含氟气体进行加热或等离子体活化产生的氟自由基是首选的原位清洗剂。它们与CVD薄膜——

著录项

来源
《集成电路应用》 |2009年第4期||共1页
作者

展开▼
作者单位

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类 TN304.055;
关键词

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. LPCVD多晶硅和氮化硅管的一种简单的现场清洗方法 [J] . HuliBA . 微电子技术 . 1995,第001期
2. 用于新型亚微米存储器间隙充填和平面化的低温亚压CVD（SACVD）USG／PSG工艺 [J] . 石松 . 微电子技术 . 1994,第005期
3. 关于CVD膛腔清洗工艺中降低成本及减少释放量的研究 [J] . GaryLoh ,陆晴 ,吴光耀 . 集成电路应用 . 2004,第009期
4. 关于CVD膛腔清洗工艺中降低成本及减少释放量的研究 [J] . Gary Loh ,陆晴 ,吴光耀 . 集成电路应用 . 2004,第009期
5. 罐头加工厂加压水箱和供水管路的清洗工艺化学清洗现场事例7 [J] . 伊藤日 . 中国洗涤用品工业 . 2019,第007期
6. 四氟乙烯和八氟环丁烷热解制六氟丙烯工艺的探索 [C] . 吴常根 ,程明 . 2016中国氟化工技术与应用发展研讨会 . 2016
7. 四氟乙烯和八氟环丁烷共裂解制六氟丙烯反应工艺的研究 [A] . 沈建明 . 2006

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号