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汤政涛; 刘后传; 张启凯; 吕照辉; 戚健剑; 于少明;
合肥工业大学化学与化工学院 安徽合肥230009;
泰兴冶炼厂有限公司 江苏泰兴225400;
酸性氯化铜蚀刻废液; 氢氧化铜; Cu2+回收率; 制备;
机译:用酸性氯化铜废液制备纯铜粉
机译:从氯化铜蚀刻废液中回收氧化铜,并作为工厂的铜资源再利用
机译:用于蚀刻印刷电路的氯化铜酸性溶液再生的环保方法
机译:氯化铜-盐酸微蚀刻粗化工艺及其应用
机译:从Cr2AlC制备Cr2C MXene的蚀刻工艺研究。
机译:快速冷冻深蚀刻技术研究线粒体内膜
机译:从平板显示器制造工艺的蚀刻废液中选择性回收铟
机译:酸性氯化铜印刷电路板蚀刻剂的电解再生。最终报告,1995年8月1日 - 1996年10月31日
机译:氯化铜蚀刻废液和精制氯化铜溶液的精制方法
机译:氯化铜蚀刻废液和纯化的氯化铜溶液的纯化方法
机译:氯化铜蚀刻废液的精制方法和精制的氯化铜溶液
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