首页> 中文期刊> 《现代显示》 >低温多晶硅TFT技术的发展

低温多晶硅TFT技术的发展

             

摘要

本文综述低温多晶硅(LTPS)TFT技术的最新进展情况.该技术目前的研究前沿是:(1)制作高性能的TFT;(2)在柔性衬底上制作LTPS TFT;(3)驱动有机发光器件的TFF;(4)LTPS TFT的新应用.同时还展望了LTPS TFT技术的未来发展趋势.

著录项

  • 来源
    《现代显示》 |2003年第1期|33-37|共5页
  • 作者单位

    华中科技大学电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;

    华中科技大学电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;

    华中科技大学电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;

    华中科技大学电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;

    华中科技大学电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TN321.5;
  • 关键词

    低温多晶硅; 薄膜晶体管; 平板显示;

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号