有序介孔钴掺杂氧化硅的合成与表征

摘要

以硅酸钠为硅源、氯化钴为钴源、表面活性剂Brij56为模板,水热合成得到一系列Co掺杂介孔氧化硅(Co-MS),采用X-射线衍射(XRD)、N2吸附-脱附、透射电镜(TEM)、紫外可见吸收光谱(UV-Vis)和红外光谱(FT-IR)等手段表征了合成样品的结构和性质。合成过程中,一定量的Co(II)离子的存在可以有效增加介孔氧化硅的比表面积,并一定程度地增大有序介孔的孔径,表明钴盐的加入对介孔结构起盐效应。从Co-MS的UV-Vis分析可以看出,在其骨架中只含有Co(II)。