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龚灿锋; 席珍强; 王晓泉; 杨德仁; 阙端麟;
浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;
氮化硅; 热处理; PECVD;
机译:使用氮化硅玻璃插入氧化硅玻璃和热处理后氮化硅氮化硅和热处理的半均匀连接
机译:热退火处理对硅衬底上生长的GaN薄膜光学和电学性能的影响
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:铜比和硫化工艺对超声喷涂热解CZTS薄膜光学,结构和电学性能的影响
机译:晶体结构和界面形成对纳米粒子印刷薄膜电学性能的影响。
机译:微波加热处理烧结反应粘结氮化硅的表征
机译:可调谐薄膜光学器件及可调谐薄膜光学器件的制造方法
机译:薄膜光学波导及其制造方法和薄膜光学基础材料
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